高効率マイクロ波加熱技術 2026/09/29

簡介

精密な温度制御が求められる加熱工程では、一般的に電気加熱や燃焼による間接加熱が採用されているが、これらは環境汚染を招くほか、加熱温度に対する要求が高く、加熱時間や冷却時間も長い。マイクロ波加熱技術を採用すると、マイクロ波が物質を直接浸透して加熱する。局所的な昇温速度が速く、半導体ワークのアニールプロセス温度が低くなり、局所的な目標温度到達時間を短縮する。

技術優勢及特色

マルチモード

• マイクロ波の電場や信号等の空間配置を調整し、モード数を4倍に増加。複数のデータ蓄積により、解析結果の客観性を向上。

低温・省エネ

• 従来の加熱アニール（RTA）やレーザーアニールと比較し、マイクロ波アニールは低温プロセス（ワークのアニール処理温度は前述の2方式の半分）により、60%以上の省エネを達成。

高アニール均一性

• 製品の均一性は99%以上を達成。半導体業界の標準規格に準拠（99%）。

產業應用及商機

• 可應用產業
• 半導体製造アニール工程、食品乾燥工程、化学合成・熱分解工程等。
• 應用實例
• 食品業界の焼成工程へ導入され、消費電力を30%以上削減し、加熱時間を50%以上短縮した。
• 半導体工場において低温マイクロ波アニールの実証試験を完了した。60%以上の省エネを達成するとともに、アニール均一性も半導体規格を満足し、アニール工程関連コストを50%以上削減した。