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紅外光加熱與滾輪式接觸轉印技術應用於製作微奈米結構
作者
陳學良、陳俊宏、李永春
刊登日期:2008/09/01
摘要
滾輪式紅外光輔助金屬轉印技術採用一般紅外燈管當加熱源,將矽模仁上的次微米級圖形轉印到2cm×2cm 大小的石英基板上,而且分別有七種不同的圖形分布在石英基板上,搭配後續的蝕刻製作出石英模仁。最後利用此技術可以在石英基板上定義出100 nm的線寬,線與線之間距亦為100 nm。
Abstract
The nano-imprinting method named Roller-Based and Infrared-Assisted Metal Contact Printing Technology applys infrared lamp for the heating source and transfers the sub-micro-patterns on the silicon mold to Quartz which is 2 × 2cm2 in dimension. There are seven kinds of pattern on the Quartz. After etching, the Quartz mold is fabricated. Finally, we can define the diameter of the line is 100 nm on the Quartz and the spacing is also 100 nm.
前言
奈米壓印微影術用於製作奈米尺度的特徵圖形和奈米結構是一項重要且被廣泛應用的技術[1-9],這項技術可以被用來克服傳統黃光微影製程的所產生的繞射極限、複雜的化學蝕刻製程、以及龐大的投資金額等種種缺點;並且具有加工解析度高、速度快以及製程與設備成本低廉的優點,然後進行大量複製。其中主要的技術以熱壓成形奈米轉印技術(Hot Embossing Lithography, HEL)[10]、步進光感成形奈米轉印技術(Step and Flash Imprint Lithography, SFIL)[11-15]、可撓性奈米接觸轉印技術(Soft Imprint Lithography, SIL )[16-19]以及雷射輔助式奈米壓印技術(Laser Assisted Direct Imprint, LADI)[20-21]等四種為主。
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2008年09月號
(單篇費用:參考材化所定價)