作者:林義暐、鄭貴元、呂文鎔、丁嘉仁、張高德碳化矽裂片技術淺談與其產業應用
根據IHS(Information Handling Services)Markit的預測,全球功率半導體市場規模將以年增長率4.1%的速度成長。其中,以目前正蓬勃發展的第三代半導體材料碳化矽(Silicon Carbide, SiC)為例,此材料具備高頻、高功率、耐高溫且耐高壓的電器特性,預期未來會更廣泛的應用在電動車、充電樁、太陽能、離岸風電、基地台與5G等[1]。硬度方面,SiC僅次於鑽石與碳化硼,因此在切割、研磨時也較為困難,並且晶圓尺寸越大越棘手,SiC晶錠切割為晶圓的過程即唯一重要的製程技術,如何透過快速、有效率的技術進行晶錠切割,許多公司都投入資源進行相關的技術研發。本文將針對近年來各種主要切割技術進行討論與分析,提供讀者在進入晶錠切割技術領域的參考。