作者:張芯語、周府隆、黃建融、林于中、李閔凱雷射製程技術於高頻元件之進展
為滿足未來高品質通訊及手持式裝置微小化、高效能需求,提升積體電路晶片之性能,更可減少其面積,並維持其低消耗功率,因此三維積體電路結構(3D-IC)是一較可靠之解決方法。為因應3D-IC之需求,玻璃穿孔(Through Glass Via, TGV)製程較現有矽穿孔 (Through Silicon Via, TSV)製程具有更大優勢。其玻璃表面平整,並具有良好熱穩定性和電、化學穩定性。在TGVs製程中,玻璃載板將經雷射改質,以提高後續製程中之材料選擇比,方可有效形成高深寬比TGVs孔洞,此外更可搭配雷射成型光引擎模組提升整體高頻元件製程產速。