作者:曾銘宏、陳冠綸、林龔樑、王慶鈞、蔡豐羽ALD有機薄膜沉積技術
原子層沉積技術（atomic layer deposition，簡稱ALD） 不但具有高表面覆蓋性、低溫製程、低薄膜缺陷密度、可大面積與大量生產等優點，且可沈積的材料相當多元。過去的ALD研究所製備的材料以無機物為主，近幾年，開始有研究使用ALD技術製備有機物薄膜，並已有相當多元且傑出的成果與應用，包括使用ALD製備光阻薄膜、透明導電膜、OLED之發光層、應力緩衝層、阻氣薄膜、絕熱薄膜、氣體選擇膜、與高強度高分子等，有相當優異之成果。有鑑於ALD製備有機膜不但具有新穎性，且在各領域皆有高度應用潛力，本文將針對ALD有機膜目前現有的研究與應用進行簡介，以期能讓大家對此技術能有進一步的認識與了解。