作者:林士欽、賴識翔、王慶鈞、唐謙仁、田春林全介電質複合薄膜光學模擬及特性分析技術
光學薄膜製鍍方式採用複合薄膜技術，除了具有能夠改善單一材料的物理及化學特性外，亦能得到與目標光譜相近之結果。本文介紹多層結構薄膜色度與物理參數變化模擬及鍍膜開發，設計複合薄膜以玻璃/(HL)PH/空氣為主結構，利用各層結構變化可調控青色、橘色、紫色色度。全介電質膜層堆疊結構採用AlN及SiO2薄膜材料堆疊，主要特色為膜層折射率可控，結構具有絕緣性，不會影響通訊頻段電磁波的傳輸性，而當入射角大於45度時產生全反射，不會有色彩的變化。