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歷史雜誌

依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:翁志強、劉展羽、李祐昇、丁嘉仁、張高德大氣電漿輔助鑽石拋光技術

作者:劉展羽、翁志強、李祐昇、張高德常壓微能量束奈米級面形修整技術

本研究提出一種可於常壓環境下進行之非接觸式微能量束精微拋光技術，具備奈米級面形修整能力。透過反應性氣體在射頻激發下產生高反應性物種與材料交互作用，實現材料的選擇性去除與無應力加工。系統整合即時面形量測與回饋機制，並搭配自建修整路徑演算法，可針對非球面與自由曲面光學元件進行高精度修整，達成面形誤差 <λ/10與表面粗糙度Ra~1 nm。特別適用於高精度光學鏡片製程中後段之精密加工需求，展現其在精密光學製造領域的高度適應性與技術潛力。

作者:翁志強、李祐昇、丁嘉仁、張高德、楊志強、曾永標大面積大氣電漿改善輪磨加工後碳化矽晶圓翹曲量的先期研究

碳化矽（SiC）是一種寬帶隙半導體材料，是克服矽在高壓/高功率器件中局限性的具吸引力候選材料，已廣泛的被應用在儲能、風電、太陽能、電動車等對高功率、高壓具高度要求的產業。然而，眾所周知，碳化矽因其超硬、脆性和熱化學穩定性的固有特性而難以進行高效和平滑的加工。再者，因應SiC晶圓尺寸的放大，具有高材料移除效率的輪磨製程逐漸成為加工的主流之一。然而，由於塑性變形和斷裂等「應力誘導」現象，研磨過程不可避免地會在晶圓表面下方引入損傷層。本文嘗試以自行發展的大氣電漿乾式蝕刻設備，去除輪磨加工應力導致的翹曲。實驗初步結果顯示大氣電漿設備可快速且有效的將晶圓翹曲量由單面輪磨(採用8000號砂輪)後的110-150 µm，降回10-20 µm（輪磨前的晶圓翹曲量）。