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歷史雜誌

依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:李建霖、蔡坤諭、錢盛偉先進製程缺陷檢測設備性能測試標準樣本製作技術

先進製程缺陷檢測技術為驅動前瞻半導體元件與製程發展的關鍵因素之一，但在先進技術節點中，對應檢測技術的取得可能面臨困難。為了研發出新的檢測技術，需要特定尺寸的高品質測試樣本。測試樣本之製程設計可採用基於光阻之微影技術以及直接噴濺製作出微結構等方法。本文先對缺陷檢測在先進製程之重要性做一簡介，並指出測試樣本對研發缺陷檢測技術之必要性。之後針對不同測試樣本製作技術做較深入之探討，並提出未來技術之發展方向。

作者:林汶宥、王森茂、姚福財、蕭文澤超快雷射於鈦金屬表面生成微/奈米結構之探討

超快雷射技術具備低熱傳導、極低之熱影響區、高加工解析、多光子非線性吸收及加工尺度達次微米等特性，可廣泛應用於各種材料之微/奈米結構生成。本文使用皮秒綠光超快雷射於鈦金屬材料表面生成微/奈米結構，其雷射光波長為532 nm，脈衝寬度<15 ps，平均功率>8 W，脈衝頻率200 kHz。

藉由參數調變探討微/奈米結構生成之影響，調變參數包含雷射脈衝能量（5 μJ、15 μJ、20 μJ及30 μJ）與掃描時間（12.3 s、36.9 s）等。依據測試結果發現在雷射脈衝能量5 μJ時，可以在鈦金屬表面生成週期性結構，其結構間距與雷射波長532 nm相同。當改變掃瞄時間，在低脈衝能量時（5 μJ）表面結構不會有太多改變，唯有在微結構的表面會生成一些極微小的顆粒；而將雷射脈衝能量提高至30 μJ時，可在表面生成微/奈米結構。

作者:許哲誠、林龔樑、蔡豐羽原子層沉積鍍膜應用技術

透明導電薄膜（Transparent Conductive Film, TCF）為太陽能電池等光電元件不可或缺的一部分。目前元件的發展已逐步由平面結構邁向具備高深寬比與高表面積的奈米結構，但傳統的透明導電薄膜製程技術並無法於3D的結構上均勻鍍膜。原子層沉積技術（atomic layer deposition, ALD）具有高表面覆蓋性，可於奈米結構上均勻鍍膜，並可精準地控制膜厚及薄膜組成。此外，其低溫製程、低薄膜缺陷密度等優點，使其於可撓式光電元件的開發上極具發展潛力。

作者:馬寧元、黃家宏壓鑄工/模具之複合表面處理

複合電漿化學蒸鍍（Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition, PACVD）硬質膜可增加工/模具鋼材之耐磨耗、疲勞、腐蝕性與強化附著力，結合電漿氮化（Plasma Nitriding, PN）與電漿化學蒸鍍（PACVD）技術，所產生之具有TiN-Ti（B;N）-TiB2梯度層之複合奈米結構及奈米複合鍍層可成功的改善鋼鐵基材硬度、降低基材與鍍膜熱膨脹係數之差異及高耐腐蝕穩定性，於壓鑄工/模具之所有鍍膜測試皆顯示明顯增加壓鑄工/模具壽命與經濟效益。