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依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋,年份輸入範例202406
作者:黃智勇、王慶鈞、陳建志、林龔樑、簡榮楨、蔡陳德、曾力瑋、賴冠甫、劉耀先
MOCVD之反應室模組研究
本文主要探討MOCVD反應腔中基板加溫變化下的腔體流場分布情形,針對不同基板加熱溫度以及單孔進氣流量,利用粒子影像測速儀進行流場可視化實驗,觀察基板於不同加溫狀態下,影響產生於基板上的渦流情形。
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