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歷史雜誌

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作者:梁沐旺、林士欽、江源遠低壓化學氣相沉積應用技術

本文主要是介紹低壓化學氣相沉積設備與高鍍率製程技術，乃藉由氣體擴散裝置（showerhead）及前驅物氣化裝置，經製程參數的設定調整，如調控壓力、基板溫度、基板與噴灑曝氣板（showerhead）距離設定、前驅物DEZn /H2O /B2H6、鍍膜時間…等，驗證使BZO透明導電膜鍍率達120 nm/min以上時，薄膜其霧度約20 %（波長550 nm），片電阻值＜10歐姆/sq，透明度80 %以上（波長400－800 nm），膜厚不均勻性小於10 %。

作者:許哲誠、林龔樑、蔡豐羽原子層沉積鍍膜應用技術

透明導電薄膜（Transparent Conductive Film, TCF）為太陽能電池等光電元件不可或缺的一部分。目前元件的發展已逐步由平面結構邁向具備高深寬比與高表面積的奈米結構，但傳統的透明導電薄膜製程技術並無法於3D的結構上均勻鍍膜。原子層沉積技術（atomic layer deposition, ALD）具有高表面覆蓋性，可於奈米結構上均勻鍍膜，並可精準地控制膜厚及薄膜組成。此外，其低溫製程、低薄膜缺陷密度等優點，使其於可撓式光電元件的開發上極具發展潛力。

作者:何世湧透明導電膜取代之機會與挑戰

2014年全球觸控面板出貨片數年成長13.7 %達17.2億片，市場規模卻下滑1.6 %達284億美元，受到觸控產品大尺寸化與穿戴式產品的趨勢影響，使得透明導電膜開始轉往更低面阻值的取代性材料方向發展，目前取代ITO Film的透明導電薄膜，可分為五大種類：石墨烯（Graphene）、奈米碳管（Carbon Nano Tubes; CNT）、奈米銀導線（AgNW）、金屬網格（Metal Mesh）、導電高分子。五大類之中商品化程度最高的兩類為奈米銀導線（AgNW）、金屬網格（Metal Mesh），而這兩者之中以金屬網格導入的終端品牌與產品種類佔多數。

作者:黃俊杰、劉旺林、薛羽利超音波噴塗製程與設備技術

塗佈製程技術可應用之領域甚廣，包括光電與半導體產業、民生用品與醫療器材等產業。塗佈技術發展可分為乾式與濕式製程兩大主軸，其濕式塗佈製程相對於乾式製程，在成本及產率具有極大競爭力；其中，濕式塗佈製程又以超音波噴塗技術最備受矚目。超音波噴塗技術具有高材料利用率、大面積、均勻度佳，且不同於傳統二流體式噴塗技術使得噴嘴不易產生堵塞之情況。超音波噴塗技術的發展，可使國內於非真空鍍膜製程產業真正紮根，以降低對國外設備之依賴。