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作者:劉東昇、洪揚、陳世昌
雷射量測與演算法於精密定位之應用
雷射干涉儀受到很多因素影響其精度。拜現今科技進步所賜,雷射干涉儀遇到之難題已得到很大的改善,現在已成為市面上可提供高精度與高解析度的儀器。
工業各大領域在使用精密機械上要求精度越來越高,不論是工具機產業、面板產業、封裝製程等,例如因為關鍵尺寸需求勢必得開發大行程精密定位平台,由於大行程大跨距導致的累積誤差往往使定位過程達不到需求,在此引入雷射干涉儀配合傳統的光學尺使用抑制阿貝誤差。
本文發展雙回饋量測補償技術,取得回授資訊並計算控制推力達到閉回授控制,藉由切換粗細定位達到高精密定位的需求。
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