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依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋,年份輸入範例202406
作者:胡家睿、梁金興、林冠宇
大氣電漿之電漿源設計介紹
隨著台灣半導體產業的蓬勃發展與其製程相關之電漿技術也成為越來越不可或缺的腳色,產業競爭的情況下整體製程會往單位面積下高密度產出以及高能源使用效率的方向來進行提升,因此越來越多研究轉向常壓下可執行之電漿加工,近年來大氣電漿的技術突破使得表面加工變得更加靈活,依據不同的加工條件、加工效果而衍生出各式不同之電漿源之設計,本文在此將對目前常見的幾種大氣電漿源做其運作機制之解析,文中也將提出一種新式旋風型電漿源之設計。
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