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歷史雜誌

依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:陳佳盟、宋震國利用奈米壓印製作特定奈米結構之元件及其光電應用

由於近年來大多數消費型電子裝置的體積要求輕薄短小，所以其晶片之單位區域內的電子元件數量愈來愈多，致使各種奈米製造技術如雨後春筍般出現，其中以奈米壓印微影技術最為人所注意，由於其優異的特徵尺寸解析度與具大量生產的潛力；該技術可製作的表面結構幾何形狀包括柱形、錐形與線條形等，其中線條形具有相對較大的應用價值。目前國立清華大學動力機械工程學系的研究團隊利用連續滾壓式紫外線奈米壓印微影在軟性玻璃基板上已經能製作出線寬15奈米以下的金屬線柵偏光片。本文將摘要介紹奈米壓印微影及其較具代表性的相關應用。

作者:鄭貴元、陳佳盟，宋震國、周大鑫、楊文賢逆式奈米轉印技術介紹

本文主要是介紹逆式奈米轉印技術的起源、製程特色、相關應用及目前國內外的研究現況。首先，在技術起源的部分，將引用美國密西根大學彭教授的研究成果，並介紹三種主要的逆式壓印製程及其特色，另外將介紹目前學術界與產業界相關的應用以及國內外研究單位的研發現況。逆式奈米壓印技術與傳統奈米壓印製程相較之優勢是在於能在軟性基材上，製作所需的圖案；三種主要的逆式奈米轉印技術的種類，分別是熱壓式（embossing）、沾印式（inking）與全層轉印式（whole-layer transfer），此三種轉印製程的差異性在於模具上的高分子層覆蓋模具平面之平坦度。在逆式奈米轉印技術的相關應用，生物檢測、DNA 定位及微流道製作是目前的主流，而在目前國內外之研究方面，除了台灣之外，美國與韓國皆投注相當心力在此領域。未來，最新的製程技術將把轉印物由單純的高分子材料轉變為金屬或是多功能性的材料，同時也探討此技術在軟性電子產業的應用契機。