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依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋,年份輸入範例202406
作者:黃智勇、林義鈞、陳冠州、張森嘉、陳德銘、張語軒
MOCVD磊晶製程參數系統優化技術
工研院研發的可視化磊晶製程參數優化系統(CyberEpi)是屬原創性極高之製造數位化技術,不同於傳統人為設定操作參數的決策。CyberEpi軟體套件包括五個主要模組:SimEpi,FlowEpi,OptiEpi,LibEpi和OptiEpi Plus等,使用者可快速驗證磊晶的流場與化學反應(SimEpi)耦合模擬結果,透過創新的流場可視化平台(FlowEpi)和製程參數最佳化(OptiEpi)之精確模型校準。為了突破多重物理耦合模型的分析模擬極限,以提昇本系統的準確度,乃進一步導入AI品質手法「AI-enhanced Simulator」,以應用於MOCVD薄膜製程之特性研究。
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