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歷史雜誌

依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:唐謙仁、林士欽、賴識翔、黃智勇、梁沐旺、王慶鈞漸變式折射複合光學薄膜技術

本文探討漸變式折射複合光學設計及製程技術，利用反應式磁控濺鍍製程製備漸變折射率光學薄膜，並分析高低折射率材料之光學常數及殘留應力特性。使用具較低吸收及低殘留應力條件下之單層膜製程，製備AlNxOy薄膜及分析其光學常數及殘留應力特性。另製備漸變折射率光學濾光片，且使該漸變折射率光學濾光片具有良好之光學特性及低的殘留應力值。採用鋁靶做為起始的材料，調整濺鍍功率、氮氣或氧氣之氣體流量等製程參數，亦探討同時通入氮氣及氧氣製備AlNxOy光學混合薄膜，並使用電漿迴授控制方式監控氮氧化鋁電漿製程。

作者:林士欽、賴識翔、梁沐旺、王慶鈞、唐謙仁、田春林複合薄膜光學膜擬及特性分析技術

光學薄膜濾光片製鍍方式採用混合薄膜技術，除了具有能夠改善單一材料的物理及化學特性外，亦能得到與目標光譜相近之結果。本文介紹多層結構薄膜色度與物理參數變化模擬及鍍膜開發，設計混合薄膜Glass/Cr/AlN/Al/Air結構，主要特點為採用金屬Cr層來控制色度座標中的明亮度（L*），介電層AlN薄膜厚度改變反射光的色彩（a*,b*），以最外層的金屬Al薄膜用來消除穿透光，利用各層結構變化可調控青色、橘色、紫色色度。全介電質膜層堆疊結構採用AlN及SiO2薄膜材料堆疊，主要特色為膜層結構具有絕緣性，不會影響通訊頻段電磁波的傳輸性，而當入射角大於45度時會發生全反射不會有色彩的變化。