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依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:黃國隆、魏敬易高功率雷射鍍膜技術開發

為提高雷射系統的光學品質，光學薄膜技術普遍應用在其光學元件上，而要達到理想的光學薄膜，一般而言都是在眞空中用物理氣相沉積（physical vapor deposition, PVD）較易完成。其中薄膜的膜質關係到系統的穩定性與可靠性，故本分析報告測試不同之鍍膜參數，藉由原子力顯微鏡（atom force microscope, AFM）與掃描式電子顯微鏡（scanning electron microscope, SEM）等檢測儀器進行比對分析。而將較佳的成膜條件導入光學元件之薄膜設計，製造1. 光入射角0 degee，波長範圍800 ~ 1100 nm，反射率R（%） < 1%；2. 光入射角45 degee，波長範圍1064 ± 10 nm，穿透率T（%） > 99%；波長範圍808 ± 10 nm，反射率R（%） > 99.9%；3. 光入射角45 degee，波長範圍800 ~ 1100 nm，反射率R（%） > 99%的光學薄膜濾光片，並經高功率雷射測試，損害閥值可承受10 kW/cm2的強度。