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歷史雜誌

依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:林士欽、賴識翔、黃智勇、梁沐旺、王慶鈞、唐謙仁、田春林複合薄膜及多層膜的應力分析技術

光學系統所需之光學元件規格日趨嚴格，其中光學薄膜扮演的角色也日益重要，而部份應用檢測中，使用單一的薄膜材料無法鍍製出符合規格的濾光片，或無法使用傳統高低折射率材料之堆疊方式，設計出符合規格的光學薄膜濾光鏡功能，因此新的材料開發及可精確調控薄膜折射率之製程，已是目前光學多層干涉薄膜重要的研究方向。文中探討濺鍍製程中之高品質多層薄膜的應力問題，乃以硬性玻璃基板的薄膜應力理論為基礎，輔以薄膜鍍膜的技術及應力量測實驗來尋找最佳的製程參數，期使單層高、低折射率薄膜為設計基礎之多層膜殘留應力能有效降低，進而探討多層膜疊加後的應力行為。主題為多層膜應力的物理模型建置、量測與模擬分析等說明。根據彈性力學與應變不匹配等原理，從理論上建立一個包含薄膜本徵應力的薄膜殘留應力分配預測模型，以分析薄膜殘留應力提供一個輔助設計的工具，期使對薄膜製程及應用具有實際的功效助益。

作者:張凱傑、謝志男、楊濟華、李國義磁控濺鍍電漿製程之表面處理設備

作者:卓廷彬、馬寧元、葉庭魁、華振宇超硬奈米複合鍍膜發展趨勢與現況

作者:林昭憲、李文浚電漿鍍膜技術及電漿表面處理實驗室簡介

作者:楊閔傑、周力行、陳俊彥、佐藤俊一、中村貴宏飛秒脈衝雷射濺鍍技術與應用

雷射脈衝濺鍍（Pulsed Laser Deposition：PLD）技術可以在低溫下沉積各種薄膜包括成分複雜的多元化合物例如超導材料（YBaCuO）或耐磨的類鑽石膜（diamond-like carbon：DLC）...等等，而且沉積膜與靶材的化學劑量比（stoichiometry）幾乎可達一致而備受矚目。但是傳統使用Excimer或Nd:YAG雷射鍍膜時會因雷射脈衝太長，靶材受熱過久而產生微米級的噴濺物（particulate）沉積於薄膜上，影響薄膜品質。許多避免微米級顆粒產生以改善膜的品質的方式被提出，而超短脈衝雷射則被認為是可以大幅解決此項問題。本文將介紹飛秒雷射PLD與奈秒雷射PLD的差異，並對工研院南分院雷射應用科技中心與日本東北大學共同合作的飛秒脈衝雷射濺鍍技術應用於ZnO沉積的研究成果與以介紹。

作者:李侃峰、林冠宇、張家豪AZO薄膜濺鍍技術與應用

透明導電氧化物薄膜的電性與光學性質是顯示器元件不可缺少之應用需求，更直接影響太陽電池的發電效率。本文將介紹太陽電池廣泛使用的磁控濺鍍沉積AZO薄膜技術，與近期發展的產品應用，並比較各種大面積濺鍍AZO薄膜的優缺點。

作者:馬寧元、許恭銘、邱松茂、張凱傑、黃建龍有機發光二極體（OLED）顯示器之製造方法

本文概述有機發光二極體（OLED）顯示器之基本製造步驟與材料。有機發光二極體顯示器之製方法包括TFT背板製造、OLED 之加工與模組組裝。顯示器具高精密度之製造技術與潔凈度，清洗製程是高產率之重要因素。OLED顯示器之清洗方法包括物理方法、化學方法與乾式清洗法。於OLED之加工包括電洞輸送層、發光層與電子輸送層之有機層蒸鍍、陰極蒸鍍、功能性測試與封裝，而於模組之組裝包括基材切割、光學層蒸鍍、電極與封裝功能與壽命測試。OLED顯示器仍須經持續性之時間研發以開發技術才能達到量產地步。

作者:沈昌宏、謝嘉民、吳宗達、黃哲瑄、戴寶通以濺鍍後硒化法製作高效率大面積CIGS太陽能電池

近年來銅銦鎵硒（CIGS）薄膜太陽電池具有高效率、低成本的潛力，因此有機會取代成本昂貴的矽晶圓太陽電池。為此，本團隊以濺鍍法配合無毒硒化技術，輔以大面積（G1 30×40cm2）連續性濺鍍系統，以開發具量產價值之CIGS薄膜太陽能電池。利用本團隊之大面積（G1 30×40cm2）連續式濺鍍系統（可裝置10組靶材），可搭配使用一至三元的CIG相關靶材製備不同堆疊順序之結構。新穎大面積（G1 30×40cm2）金屬元素硒化設備，可獨立控制硒蒸氣流量及基板溫度，開發無毒硒化製程。藉由大面積之無毒硒化法可製作高結晶性CIGS薄膜，此G1大面積CIGS太陽能電池轉換效率可達6%。

作者:許恭銘、謝志男、邱松茂、楊景富卷式鍍膜設備開發技術

卷式鍍膜設備是一種以物理蒸鍍方式進行鍍膜於軟性材料的設備技術，其主要應用於開發軟性材料（塑膠材料：例如PI、PET，金屬材料：例如鋁箔，銅箔等）的鍍膜設備，軟性電子應用於各種商品，例如軟性電路版，觸控螢幕的透明導電膜，軟性顯示器等。

目前國內可撓式薄膜產品所使用的材料與卷式鍍膜設備大多由美、德、日掌控，售價動輒上億元新台幣，金屬中心以自主發展整合相關模組技術，成功完成卷式鍍膜量產系統之設計。進一步串聯整合及協助國內加工廠商建立次系統供應鏈體系（如靶源精密加工、磁控濺射源、真空腔體、真空電引入等），開發出國內具壓差真空腔體、軟板傳輸及透明導電膜（TCO）鍍膜模組系統。

作者:陳家全、齊孝定、蔡沐恭、吳昀芳、陳引幹、林岑盈、吳秉翰、張光博飛秒脈衝雷射低溫成長CIGS:Na薄膜於軟性基板之應用

利用飛秒脈衝雷射沉積（Femtosecond pulsed laser deposition, fs-PLD）可以在低溫（≤ 300°C），一次性的成長出具有良好結晶性的銅銦鎵硒（CuInGaSe2,CIGS）薄膜，此製程溫度適合把CIGS沉積在高分子的polyimide （PI）軟性基板。目前，許多研究觀察到以鈉（Na）玻璃（soda lime glass）當作基板時，在高溫製程中會發生微量的Na元素擴散至CIGS吸收層，可提升太陽能元件的效率；然而，將CIGS成長在高分子基板是沒有辦法提供Na元素，所以本研究利用自行製作添加Na元素（5 at%）的CIGS靶材來解決此問題，使用單一個靶材成長摻雜Na元素的CIGS薄膜（CIGS:Na），從霍爾（Hall）電性量測觀察到可以增加載子濃度及導電率，這將有利於提升太陽能電池效率。

作者:李侃峰、張家豪、林冠宇濺鍍製程設備應用技術

濺鍍技術廣泛應用於薄膜製程，本文將介紹使用平面靶材、圓柱靶材與移動磁極的磁控濺鍍技術，並比較這三種型態靶材的利用率。

作者:唐謙仁、林士欽、賴識翔、黃智勇、梁沐旺、王慶鈞漸變式折射複合光學薄膜技術

本文探討漸變式折射複合光學設計及製程技術，利用反應式磁控濺鍍製程製備漸變折射率光學薄膜，並分析高低折射率材料之光學常數及殘留應力特性。使用具較低吸收及低殘留應力條件下之單層膜製程，製備AlNxOy薄膜及分析其光學常數及殘留應力特性。另製備漸變折射率光學濾光片，且使該漸變折射率光學濾光片具有良好之光學特性及低的殘留應力值。採用鋁靶做為起始的材料，調整濺鍍功率、氮氣或氧氣之氣體流量等製程參數，亦探討同時通入氮氣及氧氣製備AlNxOy光學混合薄膜，並使用電漿迴授控制方式監控氮氧化鋁電漿製程。