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歷史雜誌

依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:唐謙仁、林士欽、賴識翔、黃智勇、梁沐旺、王慶鈞漸變式折射複合光學薄膜技術

本文探討漸變式折射複合光學設計及製程技術，利用反應式磁控濺鍍製程製備漸變折射率光學薄膜，並分析高低折射率材料之光學常數及殘留應力特性。使用具較低吸收及低殘留應力條件下之單層膜製程，製備AlNxOy薄膜及分析其光學常數及殘留應力特性。另製備漸變折射率光學濾光片，且使該漸變折射率光學濾光片具有良好之光學特性及低的殘留應力值。採用鋁靶做為起始的材料，調整濺鍍功率、氮氣或氧氣之氣體流量等製程參數，亦探討同時通入氮氣及氧氣製備AlNxOy光學混合薄膜，並使用電漿迴授控制方式監控氮氧化鋁電漿製程。