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依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:李建霖、蔡坤諭、錢盛偉聚焦氦離子束微影與鄰近效應修正技術

本文介紹一種基於模型的鄰近效應修正方法，並研究其應用於氦離子束微影的可行性。該方法通過回饋補償機制疊代地修正圖案的形狀，直到模擬的製像真確度滿足要求。我們利用點擴散函數來概括入射離子束粒子，在光阻中產生散射時所涉及的所有現象。爾後修正曝光程序的結果是利用點擴散函數和曝光圖案捲積產生之能量強度分佈及加上適當門檻值進行預測。該方法對改善氦離子束微影的效果透過數種設計好之圖案，從15到5奈米半間距於特定製程條件，包括加速電壓，光阻厚度和靈敏度等進行檢驗，初步結果顯示其在提高HIBL製像真確度方面之有效性。