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歷史雜誌

依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:張津魁、蔡雅惠、黃國唐、盧曉君非接觸式量測系統簡介

傳統在工廠內進行品質量測的方式多是使用人工進行接觸式量測，但近年來機器視覺技術逐漸發展成熟，其在自動化、智慧化生產的重要性也越來越受重視，有愈來愈多的工廠朝向使用機器視覺進行非接觸式的量測方式，本文將針對機器視覺、量測系統分析等部份進行介紹。

作者:謝伯璜、李柏毅GD&T Based之量測技術簡介

近年來科技發展迅速，各式各樣工業產品之精度要求均大幅地提高，導致加工零件的精度要求皆已提昇到微米等級。因此為了測量這些精密零件，相對地也發展出高精度的精密量測技術，進而用來測量此些精密加工的零件。因此本文將因量測原理的不同，分類介紹目前國際上常見的量測方法。

作者:鄒博年、蔡明城、謝伯璜基於點雲之即位幾何公差量測技術

近年來科技發展迅速，為滿足複雜元件與多元檢測需求，本團隊發展基於點雲之即位幾何公差量測技術。該技術導入點雲資料處理技術，並基於ASME-Y14.5M-2009全球公認標準自行研發點雲幾何公差演算法，搭配幾何公差量測介面，將整套系統應用於實際加工工件上進行四種幾何公差量測。結合高精度雷射掃描系統快速掃瞄平台，達成業界所需之產品品質及競爭力，得以取得較大的市場競爭力及較高獲利。

作者:曾聖修、王衍超、鄭元傑、李仲淇、簡瑞廷陣列微透鏡模具開發與射出成型之研究

投影機之市場隨4K超高解析度顯示器之推廣成功，逐漸覓得新的成長方向。其中方陣型透鏡陣列之開發，是雷射照明光源中關鍵元件之一。本研究為陣列微透鏡模具開發之研究，其尺寸為1111 mm、中心為採用雙面陣列微透鏡之結構6x6 mm，厚度為0.44 mm；對於光學品質而言，不只需要顧慮其殘留應力，也需要同時兼顧其成形後的翹曲量，才能確保其發光型是均勻完整的，因此模具的製作加工對位精度非常要求。

本文亦運用Moldex3D模流分析軟體針對其成形參數變更，找出優化後光學品質結果，發現其射出速度的增大，會大幅改善光程差和光彈條紋；而保壓壓力及保壓時間增加，則會改善翹曲量。綜上，改善後參數為增加射出速度、保壓壓力和時間，其光程差及翹曲量的改善幅度大約為50%，在陣列結構的位置其光彈條紋分佈也可幾乎消失。

作者:康基宏雲端能效管理方案

手機已成為世界上個人最主要的裝備之一，且幾乎都是隨身攜帶。藉由新的通訊技術，所有馬達的運轉資訊包括電壓電流及功率等都可顯示在手機上。工程師及管理者都可透過手機了解每顆馬達的運轉狀況，經過授權的人員更可藉由手機用他們的手指控制馬達運作。

作者:鄭雲謙、蘇哲甫、李炫奇3D點雲之幾何公差量測技術概論

近年來因為量測技術已經漸漸成熟，各式各樣的量測設備不斷的更新，更加易於使用者操作。然而因加工零件朝著越精密微小化的方向發展，以至於如何精確地得到機械幾何公差和工件資料變得更加重要，因此本文中將對目前的量測技術作簡介。

作者:陳文仁高精密量測：驅動智慧製造與高階產業競爭力的核心基石

隨著智慧製造、人工智慧與高階製造快速發展，高精密量測已由傳統品質檢驗工具，逐步成為支撐製程控制、設備監測及智慧決策的重要基礎。本期專刊以「高精密量測」為主題，涵蓋機器人視覺、半導體量檢測、工具機精度管理、智慧監測及光學量測等關鍵技術發展。透過產業趨勢分析與技術應用案例分享，展現量測技術如何串聯感測、控制與數據分析，並成為推動智慧製造與高階產業升級的重要核心。

作者:傅尉恩高精密量測技術專輯主編前言

作者:陳贊仁精密量測在平面顯示器生產製程的關鍵性與應用

作者:簡瑞廷、李仲淇、林經博光學陣列結構加工與檢測技術

近年來光學陣列結構的應用越來越多，特別是LED（Light-Emitting Diode，LED）燈、投影機等產品開發。然而缺乏精確、快速的量測方法，限制了製程技術的發展。本文針對光學陣列結構的製程與檢測方式進行介紹，以實際應用案例進行說明，在導入檢測驗證方法後，陣列結構的形狀精度可達到0.5μm以內。

作者:張雯琪半導體精密量檢測設備產業洞察

高階半導體晶片設計與先進封裝的導入，量測與檢測環節的重要性顯著提高。根據Yole 報告，
2025 年全球量檢測設備市場成長15%，超過180 億美元，占晶圓製造設備整體14%，預計到2031 年市場
規模將成長至約250 億美元[1]。此一增長反映由先進製造和封裝所帶動的製程控制強度增加，相對應的
硬體、軟體、分析演算法和混合計量等技術也同步演進。當製程節點推進至5 奈米以下，傳統光學受繞
射極限制約，電子束檢測轉為影響量產良率的重要設備；在環繞式閘極 (Gate-All-Around，GAA) 結構和
3D IC 封裝結構中，具備非破壞性與高穿透力的X-ray 檢測技術，成為內部缺陷檢測、晶體結構與材料分
析不可或缺的設備。本文將觀察精密量檢測設備產業發展趨勢，協助產業界掌握技術動態，提升量測效
率並縮短產品上市時間。

作者:李朱育、蔡姓賢、蔡岳哲、曹庭豪、朱俊諺單拍偏振干涉法應用於表面輪廓之量測