作者:李朱育、張書菡、陳文彥、蔡姓賢偏振干涉術之滾轉角位移量測技術
精密機械與半導體生產過程中，生產品質深受設備精度影響。為確保加工精度，誤差量測至關重要，而在旋轉誤差量測中又以滾轉角位移最難測得，主因來自於滾轉角位移為一種面內（In-plane） 位移，亦即滾轉角位移過程中不會產生任何的平面位移量。本文首先簡要闡述相關角位移量測技術，從而重點介紹本團隊開發偏振干涉技術。該技術以雙折射晶體引入光學相位差變化，應用偏振干涉解相法來快速獲得相位差資訊，進而推算出滾轉角的位移變化。從第一代單光束架構達到滾轉角位移量測，第二代雙光束架構能在滾轉角位移量測時抑制俯仰角變化的干擾，從而達到姿態角位移的精密量測。並藉由理論推導與實驗，驗證以上姿態角位移量測技術的可行性。