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歷史雜誌

依專輯名稱關鍵字搜尋或依年份搜尋，年份輸入範例202406

作者:李建霖、蔡坤諭、錢盛偉先進製程缺陷檢測設備性能測試標準樣本製作技術

先進製程缺陷檢測技術為驅動前瞻半導體元件與製程發展的關鍵因素之一，但在先進技術節點中，對應檢測技術的取得可能面臨困難。為了研發出新的檢測技術，需要特定尺寸的高品質測試樣本。測試樣本之製程設計可採用基於光阻之微影技術以及直接噴濺製作出微結構等方法。本文先對缺陷檢測在先進製程之重要性做一簡介，並指出測試樣本對研發缺陷檢測技術之必要性。之後針對不同測試樣本製作技術做較深入之探討，並提出未來技術之發展方向。

作者:蔡坤諭、李建霖、錢盛偉極紫外光微影光罩檢測技術

此篇文章對於極紫外光（EUV）微影技術所須之具多層反射膜結構之光罩，其製造過程中需要之檢測技術之發展現況做一簡介，並提出一些展望。EUV光罩之製程設計可採用許多和傳統光學光罩製程類似的步驟與設備，本文先由此出發做一簡介與比較，並指出幾個檢測EUV光罩特別之處。之後針對EUV光罩基底片（Mask Blank）製備過程之檢測技術做較深入之探討，並提出未來技術之發展方向。