透過超高深寬比金屬化填孔技術、高深寬比雷射改質及蝕刻技術,成功突破先進封裝的深寬比限制與填銅瓶頸,提供面板級封裝材料與設備國產化完整解決方案。【更多內容】
此解決方案提升高深寬比鍍膜品質,並以複合共腔設計減少傳輸與抽氣,節能20%,降低成本、提高良率與均勻度。【更多內容】
本技術整合 2D 與 3D 量測於單站,減少 50% 檢測時間並降低 40% 設備成本,適用先進封裝之多參數檢測。【更多內容】
高效雙模態原子層鍍膜系統(High Efficiency Aspect ratio Deposition/Matrix ALD)
半導體完美鍍膜最佳解方